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花生醬先森吖新蟲 (初入文壇)
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[求助]
NbOx刻蝕前后為什么我擬合的峰位置偏差在1eV左右？
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我做的是NbOx薄膜，刻蝕前擬合出來的NbO和NbO2和Nb2O5的峰位置大概是205和206.6和207.5左右，（我沒用C校準(zhǔn)，因?yàn)楝F(xiàn)在有的報(bào)道不準(zhǔn)確，用的是費(fèi)米能級校準(zhǔn)的），刻蝕后只有Nb2O5差不多，其他兩個(gè)相差1eV，這是什么原因呢？是我操作的問題嗎？急求。 發(fā)自小木蟲IOS客戶端 |
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