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Motomori新蟲 (初入文壇)
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干浸漬法,Ru/SiO2的xps分析問題: 已有1人參與
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使用干浸漬法以RuCl3為前驅體,120度焙燒2h,400度 10vol% 氫氣/氬氣還原4h,得到的Ru3d 5/2峰位置在283左右。 想請問一下: 1. 這種實驗條件下Cl可以被除去嗎? 2. 這個283eV左右的峰是由于Ru被氧化引起,還是最終催化劑上仍有RuCl3存在而引起? (根據(jù)文獻:DOI 10.1002/sia.5852 中RuCl3的3d 5/2峰位置在282.8eV) 3.還是用濕浸漬法制備了催化劑,分峰得到的Ru 3d 5/2峰在281左右,沒有出現(xiàn)283eV左右的峰,所以283eV處的峰是和制備方法有關嗎? 希望有大神可以解答一下!感謝感謝! @guozl @andyyyu @zyhou @地獄血幽靈 @kinkilyou @kinkilyou 發(fā)自小木蟲IOS客戶端 |
新蟲 (初入文壇)
木蟲 (正式寫手)
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Ru/ZrO2 Catalysts for Transfer Hydrogenation of Levulinic Acid with Formic Acid/Formate Mixtures: Importance of Support Stability https://doi.org/10.1002/slct.201702152 可參考這篇 |
新蟲 (初入文壇)
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