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rlafite木蟲 (正式寫手)
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同步輻射應(yīng)用概論 已有3人參與
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同步輻射應(yīng)用概論 作 者：馬禮敦，楊福家主編 出 版 社： 出版年份：2001 年 ISBN：978730902768X 頁數(shù)：513 頁 圖書介紹：上海市研究生教育專項經(jīng)費資助:本書第一篇三章主要介紹同步輻射的發(fā)生、加工與引出，是全書的技術(shù)基礎(chǔ)；第二篇八章主要介紹了八種比較通用的同步輻射實驗方法。包括各種方法的原理、實驗裝置、數(shù)據(jù)處理與一些應(yīng)用實例；第三篇六章介紹了同步輻射在一些研究方面的應(yīng)用簡況。 http://pic-pic-pic-rb.xingda-shoes.cn//cov/1/18/10350518.jpg 緒論 第一篇 同步輻射裝置 第一章 同步輻射源 第一節(jié) 同步輻射的發(fā)展與現(xiàn)狀 一、同步輻射理論的發(fā)展 二、同步輻射技術(shù)的發(fā)展 三、同步輻射裝置的現(xiàn)狀 第二節(jié) 同步輻射源的構(gòu)造 一、總體介紹 二、電子儲存環(huán) 三、注入器 四、附屬設(shè)備 第三節(jié) 同步輻射的重要物理參數(shù)與特性 一、彎轉(zhuǎn)磁鐵的發(fā)射 二、插入件的發(fā)射 參考文獻(xiàn) 第二章 同步輻射裝置中的光路和光學(xué)元件 第一節(jié) 同步輻射裝置中的光路 一、前端區(qū) 二、光束線 第二節(jié) 同步輻射裝置中的光學(xué)元件 一、透光元件(窗) 二、反光元件(鏡) 三、聚光元件 四、分光元件 五、偏光元件 參考文獻(xiàn) 第三章 同步輻射裝置的計算機(jī)控制 第一節(jié) 同步輻射裝置的計算機(jī)控制系統(tǒng) 一、同步輻射裝置計算機(jī)控制系統(tǒng)的任務(wù)和功能 二、同步輻射裝置計算機(jī)控制系統(tǒng)的體系結(jié)構(gòu) 三、同步輻射裝置計算機(jī)控制系統(tǒng)的軟件結(jié)構(gòu) 四、幾個實例 第二節(jié) 同步輻射裝置中電子束和光束線參數(shù)的測量和控制 一、同步輻射裝置的束流測量和診斷系統(tǒng) 二、同步輻射裝置中電子束團(tuán)的反饋控制系統(tǒng) 三、同步輻射裝置中同步光束線的監(jiān)測和控制 參考文獻(xiàn) 第二篇 同步輻射的實驗方法 第四章 同步X射線散射 第一節(jié) 前言 一、國際上建有X射線散射線站的同步輻射裝置 二、同步X射線散射線站的科學(xué)目標(biāo) 三、同步X射線散射線束的布置 第二節(jié) X射線散射的物理學(xué)基礎(chǔ) 一、湯姆遜散射 二、康普頓散射 三、熒光X射線散射 四、粒子體系的散射 五、二相體系的散射 六、熱漫散射 七、X射線拉曼散射 八、X射線磁散射 九、X射線核共振散射 第三節(jié) 同步X射線實驗線站與應(yīng)用舉例 一、同步X射線散射實驗線站舉例 二、同步X射線散射應(yīng)用舉例 參考文獻(xiàn) 第五章 同步X射線衍射 第一節(jié) X射線衍射原理基礎(chǔ) 一、晶體的周期性與對稱性 二、晶體衍射X射線的基本公式 第二節(jié) X射線衍射測定晶體結(jié)構(gòu) 一、測定晶體結(jié)構(gòu)的任務(wù) 二、X射線單晶體衍射 三、粉末衍射從頭測定晶體結(jié)構(gòu) 第三節(jié) 多晶體衍射表征多晶體材料 一、可從多晶體衍射圖上得到的物理量 二、利用衍射線的位置和衍射線數(shù)量可進(jìn)行的工作 三、利用衍射線強(qiáng)度可進(jìn)行的工作 四、利用衍射線形可進(jìn)行的研究 第四節(jié) 同步X射線衍射的實驗設(shè)備與基本方法 一、基本實驗設(shè)備 二、基本實驗方法 第五節(jié) 同步X射線特殊衍射技術(shù)與應(yīng)用 一、高分辨X射線衍射 二、能量色散與時間分辨衍射 三、顯微衍射 四、掠射和表面衍射 五、在位衍射與極端條件衍射 六、聯(lián)合技術(shù) 參考文獻(xiàn) 第六章 同步X射線吸收精細(xì)結(jié)構(gòu) 第一節(jié) X射線吸收精細(xì)結(jié)構(gòu) 一、X射線吸收光譜與精細(xì)結(jié)構(gòu) 二、XAFS的發(fā)展歷程 第二節(jié) XAFS的單電子理論解釋與表式 一、低能XANES——邊前區(qū) 二、XANES——近邊區(qū) 三、EXAFS——廣延區(qū) 第三節(jié) 實驗裝置與數(shù)據(jù)處理 一、X射線吸收譜實驗裝置 二、EXAFS譜的數(shù)據(jù)處理 第四節(jié) XAFS技術(shù)應(yīng)用舉例 一、非晶態(tài)材料與溶液 二、催化劑與催化作用 三、生物大分子結(jié)構(gòu)研究 四、表面與吸附結(jié)構(gòu) 五、缺陷與雜質(zhì)的結(jié)構(gòu) 六、環(huán)境和地球化學(xué) 七、用XANES作不同價態(tài)元素的定量分析 第五節(jié) XAFS的一些發(fā)展 一、X射線發(fā)射光譜與非彈性散射 二、聯(lián)合在位測量與復(fù)合光譜 三、X射線磁圓二色譜 四、極端條件下的XAFS 五、時間分辨XAFS 六、顯微XAFS 七、NEXAFS掃描透射X射線顯微鏡 參考文獻(xiàn) 第七章 同步X射線熒光分析 第一節(jié) X射線熒光分析基礎(chǔ)知識簡介 一、特征X射線的產(chǎn)生 二、特征X射線強(qiáng)度 三、X射線熒光譜的本底來源 第二節(jié) 同步輻射光源是X射線熒光分析最理想的激發(fā)源 一、熒光產(chǎn)生截面比較 二、X熒光分析靈敏度比較 三、不同激發(fā)源對樣品的損傷比較 四、單色X射線可對元素進(jìn)行特征激發(fā) 五、同步輻射X熒光法可作微量元素化學(xué)態(tài)分析 第三節(jié) 同步輻射X射線熒光分析實驗裝置 一、SXRF對光束線的要求 二、SXRF實驗站 三、X射線譜儀 第四節(jié) 同步X射線熒光分析 一、譜的采集 二、譜的分解 三、SXRF譜的歸一化 四、SXRF定量分析方法 第五節(jié) X射線熒光分析技術(shù)新進(jìn)展 一、同步輻射微探針 二、全反射X熒光分析 三、同步輻射X熒光圖像分析 第六節(jié) 同步X射線熒光分析應(yīng)用 一、SXRF在生物醫(yī)學(xué)方面的應(yīng)用 二、SXRF在地礦研究中的應(yīng)用 三、SXRF在環(huán)保方面的應(yīng)用 四、SXRF在考古中的應(yīng)用 參考文獻(xiàn) 第八章 同步輻射光電子能譜 第一節(jié) 引言 第二節(jié) 基本原理 一、光電發(fā)射的基本物理過程 二、光電離截面和電子逃逸深度 三、光電發(fā)射中的守恒量和選擇定則 第三節(jié) 實驗裝置 一、光電子能譜儀的基本構(gòu)成方式 二、常規(guī)光電子能譜儀中的光源 三、能量分析器和電子倍增器 第四節(jié) 價帶光電子能譜 一、態(tài)密度和能量分布曲線 二、固體的能帶色散及其確定方法 三、偏振選擇定則在價帶光電子能譜中的應(yīng)用 四、共振光電發(fā)射 第五節(jié) 芯態(tài)光電子能譜 一、結(jié)合能和化學(xué)位移 二、譜峰的退卷積 三、固體樣品的成分分析 第六節(jié) 同步輻射光電子能譜的特殊工作模式 一、幾種工作模式的比較 二、恒定初態(tài)譜CIS 三、恒定末態(tài)譜CFS和部分產(chǎn)額譜PYS 第七節(jié) 自旋分辨的光電子能譜 一、電子的自旋極化及其測量 二、自旋和角度分辨的EDC 三、非磁性固體的自旋極化光電發(fā)射 第八節(jié) 空間分辨的光電子能譜——光電子顯微術(shù) 一、進(jìn)行空間分辨測量的意義和困難所在 二、兩種工作方式：成像和掃描 三、應(yīng)用實例 四、結(jié)束語 參考文獻(xiàn) 第九章 軟X射線顯微術(shù) 第一節(jié) 軟X射線顯微術(shù)概述 第二節(jié) 活細(xì)胞的原位高分辨的結(jié)構(gòu)研究與軟x射線顯微術(shù) 第三節(jié) 軟X射線接觸顯微成像 一、SXCM簡史 二、SXCM與軟X射線吸收 三、軟X射線接觸顯微成像條件的優(yōu)化 四、活細(xì)胞成像中的幾個問題 五、SXCM圖像的讀出 第四節(jié) 透射式X射線顯微鏡 一、Gottingen透射式X射線顯微鏡 二、波帶片特性簡述 三、相襯X射線顯微鏡實驗 四、振幅襯度與相位襯度 五、輻射劑量和基于相位襯度的X射線顯微圖像 六、透射式X射線顯微鏡的圖像顯示 第五節(jié) 掃描透射式X射線顯微鏡 一、簡史 二、STXM裝置 三、成像的時間及對X射線源的要求 四、酶原顆粒的STXM實驗 第六節(jié) 軟X射線全息顯微術(shù) 一、全息術(shù)的基本原理 二、低分辨率的軟X射線全息顯微術(shù)是可以實現(xiàn)的 三、軟X射線全息顯微術(shù)實驗系統(tǒng) 第七節(jié) 細(xì)胞的X射線顯微圖例和結(jié)語 參考文獻(xiàn) 第十章 同步輻射紅外光譜 第一節(jié) 同步輻射紅外光源的產(chǎn)生及其特點 一、同步輻射紅外光源的優(yōu)點 二、紅外光束強(qiáng)度隨出射角和波長的分布關(guān)系 三、彎轉(zhuǎn)磁鐵邊紅外輻射光譜的特點 四、紅外光束的引出及其與真空系統(tǒng)的隔離 五、紅外光子能量和波長選擇器 六、紅外光子探測器 第二節(jié) 同步輻射光源在固體紅外光學(xué)性質(zhì)研究等領(lǐng)域的應(yīng)用 一、光學(xué)常數(shù) 二、實驗方法 三、同步輻射紅外光源的多種應(yīng)用領(lǐng)域 參考文獻(xiàn) 第十一章 軟X射線磁圓二色 第一節(jié) X射線磁圓二色的基本原理 一、X射線吸收磁圓二色 二、光電子發(fā)射X射線磁圓二色 三、指定元素的磁性 第二節(jié) 實驗原理和主要實驗條件 一、實驗原理 二、主要實驗條件和要求 三、提高測量靈敏度的有效途徑——調(diào)制光譜技術(shù) 第三節(jié) 軟X射線磁圓二色在科學(xué)研究中的應(yīng)用 一、X射線吸收磁圓二色 二、光電子發(fā)射磁圓二色 第四節(jié) 同步輻射X射線磁圓二色工作站 一、美國 二、歐洲 參考文獻(xiàn) 第三篇 同步輻射在一些學(xué)科領(lǐng)域中的應(yīng)用 第十二章 同步輻射在生命科學(xué)中的應(yīng)用 第一節(jié) 生物大分子的三維結(jié)構(gòu)分析 一、同步輻射和結(jié)構(gòu)生物學(xué) 二、蛋白質(zhì)的基本結(jié)構(gòu) 三、蛋白質(zhì)的三維結(jié)構(gòu)與生物學(xué)功能 第二節(jié) 藥物的分子設(shè)計 一、基本原理 二、設(shè)計實例 第三節(jié) 生命過程的分子動態(tài)“電影” 一、基本原理 二、實例和進(jìn)展 第四節(jié) 生命科學(xué)其他研究領(lǐng)域中的應(yīng)用 一、蛋白質(zhì)工程 二、生物大分子的x射線吸收波譜學(xué) 三、蛋白質(zhì)折疊 四、生物膜結(jié)構(gòu) 五、活細(xì)胞的軟X射線顯微術(shù) 參考文獻(xiàn) 第十三章 同步輻射在醫(yī)學(xué)研究中的應(yīng)用 第一節(jié) 基于同步輻射的醫(yī)學(xué)應(yīng)用研究項目 一、經(jīng)靜脈冠狀動脈造影 二、同步輻射支氣管造影 三、單色X射線CT 四、乳腺癌診斷 五、腫瘤的微束放射治療MRT 六、光子活化放射治療 七、同步輻射相襯成像 第二節(jié) 冠狀動脈血管造影的醫(yī)學(xué)背景 第三節(jié) 雙色減影冠狀動脈造影 第四節(jié) 同步輻射冠狀動脈心血管造影系統(tǒng) 一、扭擺器 二、單色器 三、探測成像系統(tǒng) 四、計算機(jī)系統(tǒng) 五、病人輻照座椅控制系統(tǒng) 六、安全系統(tǒng) 第五節(jié) 同步輻射冠狀動脈血管造影醫(yī)學(xué)臨床應(yīng)用現(xiàn)狀和前景 參考文獻(xiàn) 第十四章 同步輻射在聚合物科學(xué)中的應(yīng)用 第一節(jié) 聚合物結(jié)構(gòu)簡述 第二節(jié) 同步X射線散射在聚合物研究中的應(yīng)用 一、相干X射線散射斑紋譜研究嵌段聚合物二維海島結(jié)構(gòu) 二、磁場誘導(dǎo)聚合物側(cè)鏈型液晶(MAPB、APB、MPB)的凝聚態(tài)結(jié)構(gòu) 三、流動場中氧化乙烯-氧化丙烯嵌段共聚物的SAXS 四、應(yīng)力場中高密度聚乙烯(HDPE)與線形低密度聚乙烯(LLDPE)的響應(yīng) 五、聚乙烯(PE)熔體在結(jié)晶初期折疊鏈片晶的整數(shù)倍增厚 六、低分子量聚氧化乙烯(PEO)非整數(shù)折疊向整數(shù)折疊鏈的結(jié)晶轉(zhuǎn)變 七、實時RT-SR-WAXS與SAXS測量聚對苯二甲酸丁二酯(PBT)的膨脹率 八、流動場中聚乙烯(PE)相結(jié)構(gòu)的在場研究 九、微量催化劑對聚對苯二甲酸乙二酯(PET)結(jié)晶速率與晶格畸變的影響 十、溫度場誘發(fā)聚氨酯(PU)仿肌纖結(jié)構(gòu)的變化 十一、微區(qū)衍射研究BIOPOL聚合物的球晶結(jié)構(gòu) 十二、聚對苯二甲酸乙二酯(PET)的時分TR-SAXS研究 十三、水凝膠微球內(nèi)部結(jié)構(gòu)的TR-SAXS研究 十四、互貫聚合物網(wǎng)絡(luò)(IPN)的相態(tài)與結(jié)構(gòu)分析 十五、偏振XANES研究經(jīng)摩擦聚合物(PI)表面鏈的排布 十六、聚-L-谷氨酸-γ-苯甲酯(PBLG)在空氣/水界面上浮置膜的掠入射衍射(GID)研究 十七、軟X射線光降解聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)機(jī)制的研究 十八、嵌段共聚物在振動切應(yīng)變過程中的TR-SAXS研究 參考文獻(xiàn) 第十五章 同步輻射在非晶態(tài)材料中的應(yīng)用 第一節(jié) 非晶態(tài)材料簡介 第二節(jié) 研究非晶態(tài)的實驗方法 一、X射線分析技術(shù) 二、各種顯微鏡 三、各種能譜和光譜技術(shù) 第三節(jié) 同步輻射應(yīng)用舉例 一、金屬玻璃結(jié)構(gòu)的研究 二、氧化物玻璃結(jié)構(gòu)及結(jié)構(gòu)與功能關(guān)系的研究 三、熔體結(jié)構(gòu)的研究 四、溶液與膠體 五、表面與界面 參考文獻(xiàn) 第十六章 同步輻射在催化中的應(yīng)用 第一節(jié) 催化劑結(jié)構(gòu)及與制備過程關(guān)系的研究 一、Ni2＋在Y分子篩中的分散位置 二、TiO2(110)單晶平面上Mo原子簇結(jié)構(gòu)的各向異性及與活性的關(guān)系 三、Ni(acac)2/AIEt2(OEt)/己烯中Ni的配位結(jié)構(gòu) 四、無載體MoS2催化劑 五、粉末衍射從頭測定分子篩的晶體結(jié)構(gòu) 六、兩種含鈷催化劑的電子結(jié)構(gòu) 七、NiO在NaY分子篩上的分散 第二節(jié) 催化劑結(jié)構(gòu)與催化性能的關(guān)系 一、載體對Pt催化燃燒反應(yīng)的影響 二、［RU6C］原子簇的催化作用及與結(jié)構(gòu)的關(guān)系 第三節(jié) 使用過程中催化劑結(jié)構(gòu)的變化、失活與再生 一、加入γ-Al2O3對Cu/ZnO催化劑使用過程中結(jié)構(gòu)的影響 二、鉬酸鎳與含硫物反應(yīng)的化學(xué) 第四節(jié) 表面與吸附結(jié)構(gòu)的研究 一、膠體納米TiO2表面與抗壞血酸分子的聯(lián)接 二、吸附H對Pt表面電子態(tài)的影響 三、CI在Ni(111)上的吸附位置 第五節(jié) 催化反應(yīng)機(jī)理的研究 一、雙核鉬原子簇催化乙醇氧化制醛的反應(yīng)歷程 二、［Co(Ⅱ)］4/Al2O3催化CO氧化的反應(yīng)歷程 三、乙醇脫水反應(yīng)中催化劑Nb原子簇的結(jié)構(gòu)變化與反應(yīng)機(jī)理 四、SO2在貴金屬表面的反應(yīng) 參考文獻(xiàn) 第十七章 同步輻射推進(jìn)微電子技術(shù)和微電子機(jī)械系統(tǒng)的發(fā)展 第一節(jié) 微電子技術(shù)和微電子機(jī)械系統(tǒng)發(fā)展需要新型光源 一、微電子技術(shù)工藝發(fā)展迅速 二、微電子機(jī)械系統(tǒng)發(fā)展前景廣闊 三、同步輻射為微電子及微電子機(jī)械系統(tǒng)工藝發(fā)展開辟了新途徑 第二節(jié) 光刻 一、同步輻射是理想的X射線曝光光源 二、光束線站的設(shè)計概要 三、關(guān)于光刻掩模的研究 四、干法表面成像刻蝕工藝 五、碳化硅刻蝕 六、GaAs刻蝕 七、LIGA技術(shù) 第三節(jié) 同步輻射光化學(xué)反應(yīng)低溫薄膜工藝 一、硅“原子層外延” 二、選擇性硅外延 三、選擇性硅基碳化硅外延 四、二氧化硅薄膜淀積 第四節(jié) 輻射改性 一、固相外延 二、Ⅲ-V族化合物半導(dǎo)體表面改性 參考文獻(xiàn) |
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- 專業(yè): 同步輻射技術(shù)及其應(yīng)用
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同步輻射X射線應(yīng)用技術(shù)基礎(chǔ) 作 者：程國峰，黃月鴻，楊傳錚編著 出 版 社： 出版年份：2009 年 ISBN：9787532395989 頁數(shù)：288 頁 支持介質(zhì)： 圖書介紹：《同步輻射X射線應(yīng)用技術(shù)概論》是介紹利用探測器和記錄系統(tǒng)接收和分析同步輻射X射線與物質(zhì)(試樣)的交互作用時激發(fā)產(chǎn)生各種各樣的信號，從而獲得有關(guān)物質(zhì)和材料的成分、原子價態(tài)和晶體結(jié)構(gòu)信息的專業(yè)基礎(chǔ)讀物。在介紹同步輻射光源的概述(第1章)之后，按同步輻射中的衍射、散射…… 第1章 同步輻射光源概述 1.1引言 1.2光源的原理和發(fā)展簡史 1.3光源主體結(jié)構(gòu)的構(gòu)造 直線加速器 電子同步加速器和電子回旋加速器 電子儲存環(huán) 1.4光束線和線束設(shè)備 光束線的引出和前段區(qū) 線束設(shè)備 1.5計算機(jī)控制 光源部分的計算機(jī)控制 計算機(jī)控制系統(tǒng)的軟件結(jié)構(gòu) 電子束和光束線中束流參數(shù)的測量和控制 1.6光源的主要特征 1.7實驗站和應(yīng)用實驗技術(shù)分類及應(yīng)用領(lǐng)域 光束線和實驗站的分類 應(yīng)用實驗技術(shù)分類和應(yīng)用領(lǐng)域 1.8應(yīng)用實驗研究課題的準(zhǔn)備、申請和實施 細(xì)致做好實驗研究課題的準(zhǔn)備工作 認(rèn)真提出實驗研究課題的申請報告 準(zhǔn)時赴同步輻射實驗站做實驗 參考文獻(xiàn) 第2章 同步輻射中衍射術(shù)及其應(yīng)用基礎(chǔ) 2.1高分辨粉末衍射和多晶樣品的結(jié)構(gòu)測定 高分辨X射線粉末衍射術(shù) 多晶樣品衍射花樣的Rietveld結(jié)構(gòu)精修 多晶樣品結(jié)構(gòu)測定從頭計算法 2.2六圓衍射儀、勞厄法和單晶樣品的結(jié)構(gòu)測定 X射線單晶六圓衍射儀 單晶結(jié)構(gòu)測定的勞厄法 面探測器在單晶樣品結(jié)構(gòu)測定中的應(yīng)用 單晶結(jié)構(gòu)測定的相角問題及其解 單晶結(jié)構(gòu)的精修 單晶結(jié)構(gòu)測定小結(jié) 2.3掠入射X射線衍射和表面結(jié)構(gòu) 掠入射X射線衍射術(shù) 原子尺度薄膜的研究 工程薄膜和多層膜的研究 2.4多重衍射及其應(yīng)用 多重衍射的基本原理 獲得多重衍射花樣的實驗方法 多重衍射的某些應(yīng)用 2.5 X射線異常衍射和差分衍射 異常散射和選擇元素衍射 相角測定的異常衍射法 晶體學(xué)中分?jǐn)偽恢脝栴} 異常寬角衍射和粉末差分衍射 2.6能量色散衍射 波長色散衍射和能量色散衍射 能量色散衍射的兩種工作模式及其比較 波長色散和能量色散衍射方法的比較 2.7特殊條件下衍射實驗研究 參考文獻(xiàn) 第3章 同步輻射中散射術(shù)及其應(yīng)用基礎(chǔ) 3.1小角X射線散射 小角X射線散射的實驗裝置 粒子的形狀、大小完全相同時小角散射強(qiáng)度及其分布的Guinier近似 樣品中粒子形狀相同但大小不同時的散射強(qiáng)度 顆粒大小及其分布的測定 納米材料分形結(jié)構(gòu)研究 二維小角X射線散射 異常小角X射線散射 3.2廣角X射線散射和廣角X射線異常散射 全徑向分布函數(shù)的廣角X射線散射測定 廣角X射線異常散射部分徑向分布函數(shù)測定 3.3 X射線非彈性散射與物質(zhì)動態(tài)結(jié)構(gòu)的研究 動態(tài)結(jié)構(gòu)研究理論基礎(chǔ)簡介 X射線非彈性散射的實驗方法 動力學(xué)結(jié)構(gòu)的非彈性散射研究 3.4其他散射術(shù)及其應(yīng)用 漫散射測定 磁散射和磁衍射 拉曼散射 參考文獻(xiàn) 第4章 同步輻射中光譜術(shù)及其應(yīng)用基礎(chǔ) 4.1 X射線發(fā)射譜及其精細(xì)結(jié)構(gòu) X射線發(fā)射譜 X射線發(fā)射譜化學(xué)分析 X射線發(fā)射譜的精細(xì)結(jié)構(gòu) 4.2 X射線吸收譜和近限結(jié)構(gòu) 吸收限 用X射線吸收譜的化學(xué)定性定量分析 X射線吸收近限結(jié)構(gòu) 4.3擴(kuò)展X射線吸收精細(xì)結(jié)構(gòu) EXAFS的基本原理 EXAFS譜的測量方法 局域結(jié)構(gòu)研究 原子價態(tài)的研究 4.4俄歇電子能譜 俄歇電子的能量和強(qiáng)度 用俄歇電子譜的元素定性定量分析 用俄歇電子譜的元素化學(xué)價態(tài)研究 4.5光電子能譜 光電子能譜的能量和強(qiáng)度 X射線光電子能譜化學(xué)分析 光電子能譜的價態(tài)研究 光電子能譜的價態(tài)研究實例 4.6軟X射線磁圓二色譜術(shù) X射線磁圓二色的基本原理 軟X射線磁圓二色譜的實驗裝置 軟X射線磁圓二色譜實例 4.7拉曼譜和非彈性散射譜 拉曼譜 非彈性散射譜 4.8譜學(xué)聯(lián)合裝置 參考文獻(xiàn) 第5章 同步輻射中成像術(shù)及其應(yīng)用基礎(chǔ) 5.1基于吸收襯度的成像術(shù)及其應(yīng)用 吸收襯度原理 人體的X射線透視檢查 材料的X射線探傷 軟X射線心血管造影 在安檢方面的應(yīng)用 5.2計算機(jī)輔助層析成像術(shù) X射線CT成像原理 人體CT檢查 CT在材料和礦樣中的應(yīng)用 5.3衍射襯度成像術(shù)及其應(yīng)用 X射線貌相術(shù) 貌相圖像的直接顯示 衍襯貌相圖中缺陷像的分析方法 5.4基于相位襯度的成像術(shù)及其應(yīng)用 相位襯度原理 X射線干涉相襯成像方法 5.5 X射線全息成像術(shù) 全息術(shù)的工作原理 X射線全息術(shù)的實驗要求 X射線全息的記錄方式 5.6三位一體成像術(shù)和明場像、暗場像 5.7其他譜學(xué)成像術(shù) 參考文獻(xiàn) 第6章 同步輻射中光刻、微細(xì)加工等技術(shù)及其應(yīng)用基礎(chǔ) 6.1引言 6.2 X射線光刻的一般原理 6.3光刻對同步輻射光源和光束線的要求 6.4 X射線光刻掩模和光刻膠 X射線光刻掩模 X射線光刻膠 6.5 X射線光刻裝置——Stepper 6.6微細(xì)加工新技術(shù)——LIGA LIGA技術(shù)工藝 深度光刻 國內(nèi)某些研究實例 6.7同步輻射光化學(xué)術(shù)及其應(yīng)用 光化學(xué)刻蝕 光化學(xué)反應(yīng)低溫薄膜工藝 6.8同步輻射輻照術(shù)及其應(yīng)用 輻照改性 輻照育種 參考文獻(xiàn) |
曹珠2樓2020-03-27 09:02:35
bingyu0729
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