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xiaomao_16銀蟲 (小有名氣)
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[交流]
k-point設(shè)置問題 已有4人參與
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如題,在計算材料的能帶結(jié)構(gòu)、態(tài)密度等性質(zhì),最初建立模型時對E_cut和k-point選取做過收斂性測試了,在Electronic部分設(shè)置好了。 但是在翻手冊時發(fā)現(xiàn)里頭說了一句圖形化接口的設(shè)置不影響B(tài)and structure里的設(shè)置之類的話(現(xiàn)在回頭去找發(fā)現(xiàn)翻不到了 ),也就是說還得在Band structure和DOS計算里再設(shè)置一次嗎?DOS里我找到了自定義k點的設(shè)置,但是能帶設(shè)置里只有Fine之類。這個要怎么理解呢。向各路大神求教! |
木蟲 (文壇精英)

銅蟲 (小有名氣)
新蟲 (小有名氣)
| 能不能請教一下,收斂性測試過程中,固定energy cut off值,該如何改變k值呢?比如k值要從小到大變化,第一次k值我取1x1x1,那么第二次,k值應(yīng)該設(shè)為2x2x2,還是1x1x2 ?總結(jié)一下,就是改變k值的時候,應(yīng)該是三個數(shù)字一起變化,還是只改變其中一個數(shù)字? |
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