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磁控濺射法制備高K薄膜，為什么漏流很大？
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| 用磁控濺射法制備高K薄膜，在漏流I-V測試時，發(fā)現(xiàn)漏流很大，漏流密度達(dá)到10-6A/cm2，無法達(dá)到絕緣效果，怎么回事？是不是磁控濺射法不適合做絕緣薄膜？測試了氧化鉿、鉿鈦氧等高k材料，漏流都很大。 |
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2樓2019-04-23 10:41:15
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