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氫氟酸蝕刻二氧化硅的條件：時(shí)間，濃度 已有2人參與
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| 本人用二氧化硅模板制備碳中空球，想要用FH蝕刻掉二氧化硅模板，請(qǐng)問(wèn)各位具體的蝕刻時(shí)間，溫度以及HF的濃度是多少呢，謝謝 |
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2樓2019-04-14 14:21:23
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3樓2020-05-28 09:05:02
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4樓2020-05-28 09:06:37
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5樓2020-11-26 09:39:58
6樓2021-01-18 13:17:48
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