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P123的模板劑如何溫和的去除?!
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先說我的樣品吧,是10*10*0.5mm的純鈦基底,利用aptes修飾了-nh2,再利用eisa方法沉積了一層sba-15介孔硅薄膜,但是模板劑p123如何很好地去除? 1.煅燒?———擔(dān)心550度高溫下破壞aptes,造成表面涂層剝脫 2.乙醇萃?——看文獻(xiàn)都是要把樣品碾成粉末放到索氏提取器里,我的樣品碾不了,直接完整的放進(jìn)去萃取能行嗎? 3.nature material上有一篇文獻(xiàn)(electrochemically assisted self-assembly of mesoporous silica thin film,doi:10.1038/nmat1951),他去除ctab模板劑的方法相當(dāng)溫和:含有0.1m hcl的乙醇溶液中攪拌5分鐘即可,這對我來講可行嗎? 4.此外還有什么辦法我可以使? 跪謝各位大神指點。!@dut_ameng |
鐵桿木蟲 (職業(yè)作家)
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