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appleliu0506金蟲 (小有名氣)
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[求助]
如何提高lift-off過程中電極的剝離速度和潔凈度？ 已有1人參與
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| 目前電極尺度在6微米，空白溝道1.5微米，這個尺度使用AZ膠光刻后，lift-off經常出現(xiàn)電極沉積不上去的問題。請教如何解決 |
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appleliu0506
金蟲 (小有名氣)
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- 專業(yè): 電化學
3樓2024-03-27 11:16:33
【答案】應助回帖
★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
感謝參與，應助指數 +1
appleliu0506: 金幣+30, ★★★★★最佳答案 2024-03-27 11:16:45
感謝參與，應助指數 +1
appleliu0506: 金幣+30, ★★★★★最佳答案 2024-03-27 11:16:45
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lift-off的過程影響因素比較多：基底，光刻尺度，膜層厚度，浸泡溶液，plasma清洗等都會受到影響。 個人的經驗是，尺度在1微米左右的光刻圖案，建議使用Ti/Au的比例在1：3，e-beam沉積速率都控制在0.5A/s，之后使用丙酮浸泡30 min，期間不要晃動和處理基片�？梢钥紤]在顯影之后使用plasma處理30s（100w的情況下）。 尺度較大的光刻圖案可使用NMP/DMSO等快速lift-off的浸泡溶液。 個人淺見，歡迎討論~ |
2樓2024-03-27 11:09:53
4樓2024-03-27 11:26:51
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