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wjmxpp新蟲 (初入文壇)
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[求助]
請教有關(guān)電化學拋光銅箔的問題 已有2人參與
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由于CVD實驗需要拋光退火后的銅箔，我的銅箔在拋光完之后不像文獻里和未拋光的銅箔比較只是表面的一條條的褶皺沒了，我的感覺都過蝕了。 在面積小的時候表面會挺光滑的，但是面積大了以后就會出現(xiàn)邊緣光滑，中心拋不光，然后中心光了，邊上又不光了 發(fā)自小木蟲Android客戶端 |
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【答案】應助回帖
感謝參與，應助指數(shù) +1
| 拋光是有必要，但是文獻中的描述也不盡正確。首先用于CVD石墨烯生長的Cu片的正確處理工藝順序應該是as-received Cu foil先拋光再去高溫在Ar和H2保護氣下熱處理，再直接通carbon precursor進行石墨烯生長。至于你提到的拋光問題，如果是參考文獻中的拋光液，給你的建議是用稍微大片的銅進行拋光，這樣即使邊上不光亮，剪裁邊上的，用中間的也可以滿足你的使用。至于拋光如何提高，我個人有倆點建議，拋光的那個銅作為正極，負極你也可以用銅片，但是負極的Cu面積要大于正極；其次拋光時間我個人覺得10分鐘足夠，拋光完立即用水和乙醇清洗完，氮氣吹干。拋光完以后在CVD高溫熱處理以后再去生長G。祝好，也祝早日解決這個問題。 |
3樓2019-12-29 21:50:52
songcumt
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2樓2019-12-29 18:20:41
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我用了一個最簡單的數(shù)字源表給電壓，看到文獻中有人說要小一點的電流密度，但是不知道怎么控制，我的確發(fā)現(xiàn)，如果我的待拋光的銅片小一點會比較容易拋光，還想問一個拋光完表面就是很光亮的狀態(tài)嗎，問過其他同學有的說不是光亮的，退火后才會比較光亮 發(fā)自小木蟲Android客戶端 |
4樓2019-12-30 21:59:23
也許、明天
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5樓2019-12-30 22:10:24
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