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Norla新蟲(chóng) (初入文壇)
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InP上PECVD法生長(zhǎng)SiN應(yīng)力問(wèn)題 已有1人參與
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化合物半導(dǎo)體工藝大神們,有個(gè)技術(shù)問(wèn)題求教一下,在InP上長(zhǎng)SiN鈍化,能扛得住500多度高溫的Zn擴(kuò)散不會(huì)裂開(kāi),也擋得住擴(kuò)散就行。試了很久,要么很容易就在高溫下起泡要么就扛不住Zn擴(kuò)散,測(cè)暗電流測(cè)出來(lái)很大,高溫出來(lái)用稀鹽酸一泡就全部掉了,感覺(jué)應(yīng)該是應(yīng)力問(wèn)題。目前recipe的條件如下: 工作頻率: 13.65MHz 溫度:260℃ 壓強(qiáng):1.5Pa power:500W SiH4 :110 sccm(He保護(hù)氣,5% 的 SiH4含量) NH3 : 8.8 sccm Ar:1000sccm 現(xiàn)在成膜速率大概十幾nm/min。沒(méi)有N2管路,所以只能試NH3。各位大神走過(guò)路過(guò)麻煩指點(diǎn)一下,謝謝 |
新蟲(chóng) (初入文壇)
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