剝離法,在曝光顯影之后,放一個(gè)星期之后還能鍍膜然后剝離嗎
請問一下,我要用剝離法得到器件結(jié)構(gòu),然后因?yàn)槭虑榈R,曝光顯影一個(gè)星期了,還能鍍薄膜然后剝離嗎?這樣剝離之后性能會(huì)不會(huì)受到很大影響?或者我把顯影之后的光刻膠溶掉?重新曝光可以嗎?
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請問一下,我要用剝離法得到器件結(jié)構(gòu),然后因?yàn)槭虑榈R,曝光顯影一個(gè)星期了,還能鍍薄膜然后剝離嗎?這樣剝離之后性能會(huì)不會(huì)受到很大影響?或者我把顯影之后的光刻膠溶掉?重新曝光可以嗎?
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京公網(wǎng)安備 11010802022153號
保險(xiǎn)方法是把光刻膠洗掉后,重新勻膠做光刻,鍍膜
如果 安全放置, 如 黃光室 一般問題不大
作業(yè)金屬前,建議用氧打下表面。
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