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磁性鎳靶材鍍膜問題 已有3人參與
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我們實驗室最近使用了鎳靶材進行多靶磁控濺射鍍膜,但是鍍膜結果很不理想,想問下大家這個問題怎么解決。我們的靶材是在一個5mm厚的銅背板上加了一個1.5mm厚的鎳靶,工作的時候使用直流電源300W,但是起輝的壓強特別高,需要到50Pa以上才能起輝,并且工作時實際功率很不穩(wěn)定,一直在100W上下跳動,一會兒高一會兒低,輝光也是不穩(wěn)。。 我懷疑有幾個原因: 1.腔室真空度不夠。我們設備最近橡膠密封圈貌似有點問題,最高真空只能抽到1.5E-3左右 2.工作壓強到70Pa左右時實際功率能穩(wěn)定下來,但是壓強太高鍍膜的效果也會下降。。 麻煩有經驗的小伙伴分析下這個問題,謝謝大家~~! |
金蟲 (正式寫手)
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