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想吃荔枝呀新蟲 (初入文壇)
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[求助]
用NaOH刻蝕二氧化硅殼層 已有1人參與
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我做的納米顆粒,想在表面包一層二氧化硅殼層,納米顆粒尺寸大概在14nm左右,二氧化硅層已經(jīng)包成功了,用的表面活性劑是Igepal CO-520,有幾個(gè)問題想請(qǐng)教一下: 1.包覆二氧化硅層厚度大概在12nm左右,怎么減薄呢,減少了一倍TEOS,但是效果不明顯。 2.試了一下用2M NaOH刻蝕,刻蝕后納米顆粒里面有類似于中空現(xiàn)象出現(xiàn),xrd圖也很奇怪。 敬請(qǐng)大神指教! |
木蟲 (小有名氣)
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首先,你的基材顆粒材質(zhì)是什么? 其次,你的基材顆粒是14nm,二氧化硅厚度是12nm,你首先保證測(cè)試的準(zhǔn)確性。 第三,減少TEOS,二氧化硅厚度未改善,證明硅源投入是過量的。 第四,用2M的NaOH刻蝕,出現(xiàn)中空,證明你基材顆粒也是可以與堿反應(yīng),且更容易反應(yīng)。 |
新蟲 (初入文壇)
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剛錄用,沒有期刊號(hào),但是在線可看的論文可以放為代表作嗎
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arang1 2026-03-01 | 3/150 |
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