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小木蟲論壇-學術科研互動平臺 » 材料區(qū) » 微米和納米 » 微納加工 » 磁性鎳靶材鍍膜問題
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磁性鎳靶材鍍膜問題 已有3人參與
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 我們實驗室最近使用了鎳靶材進行多靶磁控濺射鍍膜，但是鍍膜結果很不理想，想問下大家這個問題怎么解決。我們的靶材是在一個5mm厚的銅背板上加了一個1.5mm厚的鎳靶，工作的時候使用直流電源300W，但是起輝的壓強特別高，需要到50Pa以上才能起輝，并且工作時實際功率很不穩(wěn)定，一直在100W上下跳動，一會兒高一會兒低，輝光也是不穩(wěn)。。 我懷疑有幾個原因： 1.腔室真空度不夠。我們設備最近橡膠密封圈貌似有點問題，最高真空只能抽到1.5E-3左右 2.工作壓強到70Pa左右時實際功率能穩(wěn)定下來，但是壓強太高鍍膜的效果也會下降。。 麻煩有經驗的小伙伴分析下這個問題，謝謝大家~~！ |
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perry_ping 
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10樓2021-05-25 08:38:26
bobo201266
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2樓2021-04-14 22:01:24
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3樓2021-04-15 22:20:14
4樓2021-04-16 05:45:05
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